HISTARIS
适用于水平基板运输的在线溅射设备

适用于不同应用的模块化溅射设备

参考资料

HISTARIS 水平基板运输的在线溅射设备

德国新格拉斯科技集团旗下的HISTARIS设备是为满足 光伏产业要求而开发的,同时也适用于建筑玻璃、燃 料电池和移动设备等大面积溅射应用。凭借先进的技 术,HISTARIS设备能够在提高电池效率的同时降低生产 成本。模块化设计包括配备旋转磁控管的工艺腔室, 可对高性能TCO层或其它几种材料如金属和金属氧 化物进行溅射沉积。预处理模块可添加清洗或蚀刻工 艺。凭借其独特的模块化设计,HISTARIS设备非常适 合具有挑战性的层叠和灵活的混合产品。

以正面透明或背面金属导电层以及各种材料组成的多层 前驱体涂层为例,该设备的主要优势在于它可应用于太 阳能和显示器行业,对玻璃衬底进行真空水平式镀膜。 标准应用包括减反射层、阻挡层、前驱体层和Al, Cu, NiV等不同金属层。

HISTARIS设备采用在线式工艺,通过专门设计的承载 器或直接在定制的滚筒驱动系统上传输基板。装载和 卸载可选不同的自动化模式。

标准性能

  • 溅射材料:ITO, AZO和Mo, Al, Cu, Ag, NiV等金属层
  • 可同时对多个基板进行工艺s
  • 3种可选模式:
  • HISTARIS LAB 实验室设备
  • HISTARIS Standard标准设备
  • HISTARIS Speed 高速设备
  • 模块化配置
  • 低运营成本和高稼动率
  • 可配置自上而下和自下而上溅射
  • 可配置溅射顺序
  • 可用直流、脉冲直流、双极和射频
  • 通过旋转式圆柱形磁电管最大程度使用靶材
  • 单面端口和双面端口可选
  • 手动或半自动实验室版本
  • 生产节拍:可达到每批20秒(无承载器)
  • 高沉积速率
  • 沉积前和沉积中可对温度进行控制
  • 通过动态隔离阀和/或单个闸室进行气体分离
  • 真空底压:‹ 1 x 10-6 mbar,标准工艺气压: 2 - 5 x10-3 mbar
OK

We use cookies that are necessary to ensure the functionality and security of this website. Singulus Technologies uses "Google Analytics" cookies for statistical purposes. With the button on the right you can agree to this. You can find more information under this link.