HISTARIS
适用于异质结电池ITO和银沉积的HISTARIS在线式溅射设备
HISTARIS是针对特别需求设计的水平式在线溅射-镀膜设备,能够根据不同基材尺寸进行配置,并适用于各种层堆和产品组合。典型的应用包括太阳能控制、减反射、封装、缓冲和铜镓、铟、i-ZnO等初期层加工, 还有对钼、铝、铜、银和NiV等金属层以及适用于新型异质结电池技术的ITO和AZO透明导电氧化物层进行工艺处理。设备使用在线式工艺,基材被放在专门设计的水平传送带上进行运输。传送带可根据基材的尺寸和质地(如太阳能硅片)进行灵活配置,装载和卸载也可选择不同的自动化模式。
电池生产的关键在于效率。新型异质结电池技术(HJT) 能达到22 %甚至更高的电池效率,并在同时降低生产成本。
异质结电池两面是由PVD(物理气相沉积)工艺沉积的透明导电氧化物层。
凭借HISTARIS溅射设备,硅片可以在不翻转的情况下完成正反两面的沉积。此外,圆柱形溅射电磁管的设计可使靶材利用率高达。