HISTARIS
适用于水平基板运输的在线溅射设备

适用于不同应用的模块化溅射设备

参考资料

HISTARIS 水平基板运输的在线溅射设备

德国新格拉斯科技集团旗下的HISTARIS设备是为满足 光伏产业要求而开发的,同时也适用于建筑玻璃、燃料 电池和移动设备等大面积溅射应用。在线溅射设备在当 今光伏行业CIGS&CdTe薄膜太阳能电池生产中占有重 要的地位。

凭借先进的技术,HISTARIS设备能够在提高电池效率 的同时降低生产成本。模块化设计包括配备旋转磁控 管的工艺腔室,可对高性能TCO层或其它几种材料如金 属和金属氧化物进行溅射沉积。预处理模块可添加清 洗或蚀刻工艺。凭借其独特的模块化设计,HISTARIS 设备非常适合具有挑战性的层叠和灵活的混合产品。

以正面透明或背面金属导电层以及各种材料组成的多 层前驱体涂层为例,该设备的主要优势在于它可应用 于太阳能和显示器行业,对玻璃衬底进行真空水平式 镀膜。标准应用包括减反射层、阻挡层、前驱体层和 Al, Cu, NiV等不同金属层。

在光伏技术方面,德国新格拉斯科技集团开发并制造的 薄膜沉积设备可以镀特殊膜以及不同材料的多层膜。集 团将生产CIGS& CdTe薄膜太阳能电池的工艺设备提升 到新的生产阶段。

HISTARIS设备采用在线式工艺,通过专门设计的承载 器或直接在定制的滚筒驱动系统上传输基板。装载和 卸载可选不同的自动化模式。

HISTARIS主要特征

  • 模块化机械概念
  • 集成供电设计
  • 水平基板运输 —— 配备/不配备承载器
  • 通过使用旋转圆柱形磁电管实现最大程度使用靶材
  • 高沉积率
  • 沉积前和沉积中可对温度进行控制
  • 通过动态阀和/或独立闸室分离气体
  • 维护简单,低生产成本
  • 快速更换靶材,适用于各供应商的靶材
  • 真空底压:‹ 1 x 10-6 mbar
  • 标准工艺压力:2 - 5 x10-3 mbar
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