TIMARIS

适用于半导体和磁存储器的PVD生产平台
能将超薄金属和绝缘薄膜层的沉积厚度控制在1纳米以下，并保证精确的材料厚度和高均匀度
德国新格拉斯科技集团是先进薄膜沉积设备的著名生产商，设备主要用于生产MRAM存储器、薄膜读写头，传感器和其它半导体应用晶片。德国新格拉斯科技集团是值得信赖的合作伙伴，并在半导体应用晶片薄膜沉积技术方面处于领先地位。集团研发并完善的第二代TIMARIS PVD组合工具平台已投入市场，并为不同的应用晶片提供完整的工艺模块组合。

目前一个TIMARIS系统可根据客户需求配置出10多种不同的工艺模块。这些模块包括多靶材模块（MTM）、氧化处理模块（OPM）、预清洁模块（PCM）、复合处理模块（CPM）、四靶材模块（FTM）、静态沉积模块（SDM）以及旋转基本模块（RSM）。旋转基板模块（RSM）是ROTARIS平台的核心模块，该设备为专用于研发的溅射系统。

TIMARIS PVD模块（MTM，FTM，SDM和RSM）包含了所有的溅射技术：直流磁控溅射、脉冲直流磁控溅射、射频磁控溅射以及上述几种方式的组合。