ROTARIS
适用于研发的先进溅射设备
ROTARIS超高真空系统是用于快速、精确和全自动薄膜溅射沉积的模块化平台。它是基于200mm和300mm晶圆工艺的桥式系统。其主沉积室RSM（旋转基板模块）可容纳多达12个带直径为100mm的靶材的物理气相沉积（PVD）阴极。
ROTARIS的设计重点为旋转基板沉积技术，此外还有将基板倾斜的附加功能。其它功能还包括与最多四个阴极的“共溅射”、直流溅射、脉冲直流溅射、射频溅射、晶片加热以及原位取向磁场。使用离子源的可选项设备可完成表面处理和磨光，离子束刻蚀和侧壁清洗。
ROTARIS系统可配置另外四种附加的不同的工艺模块可以应对客户对所有研发应用的需求。这些模块包括氧化处理模块（OPM），预清洁模块（PCM），复合处理模块（CPM）和静态PVD模块（sPVD-M）。
