SILEX II

适用于太阳能电池槽式清洁和蚀刻工艺的模块化自动湿法处理设备

参考文献



德国新格拉斯科技集团为标准及高效电池生产线中的 硅晶片湿法化学处理提供完整的自动干进/干出解决 方案。

模块化SILEX II槽式设备提供多种工艺选项。为了实现 设计的最大灵活性,新一代SILEX II设备采用透明模块 化设计,占地空间紧凑。

该设备满足了目前和未来大规模生产对于产能、灵活性 和稳定性的需求。

SILEX II 8000能达到8000wph的产量。工艺槽尺寸更 小的SILEX II 4000则适用更低的生产要求,产量可达 4000wph。 这两台SILEX II设备都拥有极高的工艺良 率和低至0.01%的破损率。

SILEX II 槽式湿法处理设备

SILEX II ALTEX设备使用无异丙醇制绒工艺,较之传 统蚀刻设备能显著节省成本。该制绒工艺可根据标准 和先进电池技术各自的需求进行调整。

SILEX II CLEANTEX 将传统的单晶硅蚀刻和清洁步 骤与先进清洁和调试工艺相互结合。高效清洁步骤会 是今后电池生产线中不可或缺的一部分,是进一步改 进电池性能和降低成本的关键。基于臭氧工艺的清洁 操作在SILEX II湿台架上进行,在进行表面修整的同时 能有效去除有机和金属。由于化学品的成本和消耗量 较低,工艺控制简单且金属去除效率较高,臭氧化酸 洗已成为半导体行业公认的替代传统、昂贵的多步骤 RCA清洁的理想解决方案。

SILEX II CLEAN 适用于沉积工艺前/后的清洗步 骤。根据电池工艺流程和需求,可针对RCA、臭氧清 洁或轻微蚀刻工艺单独进行配置。

标准特征

  • 高达8000 wph的产量
  • 稼动率可达95 %
  • 破损率低至0.01 %
  • 硅片厚度低至120μm (根据要求<120 μm)
  • 个性化灵活工艺排序
  • 机载调节产能的调度软件
  • 机载性能分析软件
  • 臭氧强化清洁和蚀刻工艺
  • 迅速、稳定的无异丙醇制绒工艺
  • 合理有效的冲洗和干燥
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