GENERIS PECVD
适用于PERC太阳能电池AlOx和SiNy层的在线PECVD设备
溅射技术概览
德国新格拉斯科技集团自1995年成立后已售出超过 8000台涂层设备，既可用于光盘复制，也可作为超高 真空涂层设备用于半导体和MRAM芯片生产所需的约 0.2nm的超薄层处理。此外，真空薄膜技术被运用到 医学和汽车行业的现代传感技术，还可当作移动电话 技术的压电材料。
GENERIS PECVD
适用于PERC太阳能电池AlOx和SiNy层的在线 PECVD设备
电池生产的重点在于平均生产成本。PERC技术能在将 电池效率提高到近22%的同时降低生产成本。新研发 的GENERIS PECVD设备是专为太阳能大批量生产的 特殊需求而设计的水平式在线工具。
PERC太阳能电池两面均为介质钝化层。通过AlOx覆盖 SiN叠层薄膜沉积实现背面钝化。正面的SiNx层既可用 于钝化，也可用于抗反射涂层(ARC)。该设备非常适合 经济高效的大批量生产，具有高稼动率和清洁时间短 的优点，能最大化利用原材料。整个工艺可控制基板 温度在450 °C左右，以保证最佳的薄膜层性能。
GENERIS PECVD设备可在全真空不间断环境下对晶 圆的两面进行沉积。AlOx和SINy两种工艺由气体分离 腔室实现。因此，GENERIS PECVD可根据客户需求 进行配置：
- 完整PERC工艺：背面AlOx + SiNy ，正面SiNx
- AlOx + SiNy用于PERC背面钝化
- 正面SiNx和/或背面ARC和/或背面只有覆盖层
其中第一种配置能够在同一工具中对所有PECVD层进 行沉积，为新安装的PERC工厂提供了一种更优惠更具 吸引力的解决方案。
该设备使用一种在线工艺，将基板放在特别为晶圆(最 大尺寸可达M4)而设计的承载器上进行运输。该传输系 统位于设备下方，处于洁净的环境条件。装载和卸载 可选择不同的自动选项。
今后，GENERIS PECVD还将为更多先进和超高效电 池结构如 PERT，IBC，TOPCon/POLO电池等提供掺 杂a-Si层的单面沉积工艺。
电感耦合线性等离子体源 (ICP)
- 温和的涂层工艺，不会对发射极或界面造成损坏
- AlOx和SiNy高效动态沉积，从而减少等离子体源的 数量，降低功耗
- 合理有效地使用气体
- 最短清洁和维护时间
GENERIS PECVD总结:
- 适用于每一种太阳能电池结构
- 可调节生产量，可配置工艺模块的数量和顺序
- IC-PECVD保证温和的涂层工艺，不会对发射极或 界面造成损坏
- 工艺全程晶圆温度可控
- 全真空不间断PECVD
- 合理高效地使用气体
- 晶圆尺寸：最大为M4
- 腔室和托盘设计能减少寄生沉积
- 洁净空气中的托盘往返传输系统
- 8000 晶圆/小时，稼动率 ≈ 97 %
- 为今后的电池架构做好准备，例如钝化触点