GENERIS PECVD

适用于PERC太阳能电池AlOx和SiNy层的在线PECVD设备

参考资料

溅射技术概览

德国新格拉斯科技集团自1995年成立后已售出超过 8000台涂层设备,既可用于光盘复制,也可作为超高 真空涂层设备用于半导体和MRAM芯片生产所需的约 0.2nm的超薄层处理。此外,真空薄膜技术被运用到 医学和汽车行业的现代传感技术,还可当作移动电话 技术的压电材料。

GENERIS PECVD

适用于PERC太阳能电池AlOx和SiNy层的在线 PECVD设备

电池生产的重点在于平均生产成本。PERC技术能在将 电池效率提高到近22%的同时降低生产成本。新研发 的GENERIS PECVD设备是专为太阳能大批量生产的 特殊需求而设计的水平式在线工具。

PERC太阳能电池两面均为介质钝化层。通过AlOx覆盖 SiN叠层薄膜沉积实现背面钝化。正面的SiNx层既可用 于钝化,也可用于抗反射涂层(ARC)。该设备非常适合 经济高效的大批量生产,具有高稼动率和清洁时间短 的优点,能最大化利用原材料。整个工艺可控制基板 温度在450 °C左右,以保证最佳的薄膜层性能。

GENERIS PECVD设备可在全真空不间断环境下对晶 圆的两面进行沉积。AlOx和SINy两种工艺由气体分离 腔室实现。因此,GENERIS PECVD可根据客户需求 进行配置:

  • 完整PERC工艺:背面AlOx + SiNy ,正面SiNx
  • AlOx + SiNy用于PERC背面钝化
  • 正面SiNx和/或背面ARC和/或背面只有覆盖层

其中第一种配置能够在同一工具中对所有PECVD层进 行沉积,为新安装的PERC工厂提供了一种更优惠更具 吸引力的解决方案。

该设备使用一种在线工艺,将基板放在特别为晶圆(最 大尺寸可达M4)而设计的承载器上进行运输。该传输系 统位于设备下方,处于洁净的环境条件。装载和卸载 可选择不同的自动选项。

今后,GENERIS PECVD还将为更多先进和超高效电 池结构如 PERT,IBC,TOPCon/POLO电池等提供掺 杂a-Si层的单面沉积工艺。


电感耦合线性等离子体源 (ICP)

  • 温和的涂层工艺,不会对发射极或界面造成损坏
  • AlOx和SiNy高效动态沉积,从而减少等离子体源的 数量,降低功耗
  • 合理有效地使用气体
  • 最短清洁和维护时间



GENERIS PECVD总结:

  • 适用于每一种太阳能电池结构
  • 可调节生产量,可配置工艺模块的数量和顺序
  • IC-PECVD保证温和的涂层工艺,不会对发射极或 界面造成损坏
  • 工艺全程晶圆温度可控
  • 全真空不间断PECVD
  • 合理高效地使用气体
  • 晶圆尺寸:最大为M4
  • 腔室和托盘设计能减少寄生沉积
  • 洁净空气中的托盘往返传输系统
  • 8000 晶圆/小时,稼动率 ≈ 97 %
  • 为今后的电池架构做好准备,例如钝化触点
OK

We use cookies to ensure the functionality and security of this website. In addition, third parties may set up individual documents and pages cookies. By using this site, you agree to the use of cookies. For more information on changing this setting, and the cookies used can be found at this link.