GENERIS PVD

适用于异质结电池的在线溅射设备

溅射技术

德国新格拉斯科技集团自1995年成立后已售出超过8000台涂层设备,既可用于标准溅射工艺也可作为超高真空沉积设备用于半导体、数据存储、装饰性涂层和其它应用所需的约0.2nm超薄层处理。

德国新格拉斯科技集团在合理利用资源的基础上为高效生产流程开发创新技术。集团掌握包括真空薄膜技术、湿法化学处理、表面技术和热加工等专业技术,旨在巩固现有核心竞争力的同时拓展其它业务。

集团将运用其掌握的自动化技术和工艺技术研发创新产品,开拓其它具有潜力的业务领域。

电池生产的重点在于效率。异质结电池技术(HJT)能在将电池效率提高到22%的同时降低生产成本。新研发的GENERIS PVD设备是专为光伏高效电池生产而设计的水平式在线溅射工具。

异质结电池两面为PVD(物理气相沉积)沉积的透明导电氧化层(TCO)。该设备适用于非传统性的层堆,例如ITO, AZO等透明导电氧化层。这些薄膜拥有极低的吸光率和极强的导电性,是异质结电池技术不可或缺的重要组成部分。非晶硅层堆不存在溅射损伤。整个工艺过程基材温度控制在200°C以内,保证层堆性能最优化。

GENERIS PVD溅射设备能在全真空不间断且硅片无需翻面的情况下对其正反两面的接触层进行沉积。可选择性集成溅射层退火工艺。金属(如Ag)镀膜也在同一设备中完成。通过使用圆柱形磁电管溅射,可在降低生产成本的同时最大程度使用靶材。

其它标准应用包括减反射层、阻挡层、前驱体层和Al、Cu、NiV等不同金属层。设备采用在线式工艺,通过专门设计的承载器传输基板并隔离边缘。传送装置位于设备下方,确保其干净不受污染。装载和卸载可选不同的自动化模式。

GENERIS PVD标准性能

适用于ITO、AZO等透明导电氧化层,如HJT

  • 可同时对多个基板进行工艺
  • 三种可选模式:

    • GENERIS LAB
    • GENERIS PVD 3000,效率约2600片/小时
    • GENERIS PVD 5000,效率约5200片/小时

  • 模块化配置
  • 低生产成本和高稼动率
  • 溅射方向可选自上而下/自下而上
  • 可配置溅射序列
  • 对整个工艺过程进行温度控制
  • 通过旋转式圆柱形磁电管最大程度使用靶材溅射材质:ITO、AZO和Ag、NiV、Cu、Al等金属
  • 可选单边/双边模式
  • 可根据客户要求定制手动或半自动式实验室版本
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