HISTARIS

适用于不同应用的模块化设备

HISTARIS是针对特别需求设计的水平式在线溅射-镀膜设备,能够根据不同基材尺寸进行配置,并适用于各种层堆和产品组合。典型的应用包括太阳能控制、减反射、封装、缓冲和铜镓、铟、i-ZnO等初期层加工, 还有对钼、铝、铜、银和NiV等金属层以及适用于新型异质结电池技术的ITO和AZO透明导电氧化物层进行工艺处理。设备使用在线式工艺,基材被放在专门设计的水平传送带上进行运输。传送带可根据基材的尺寸和质地(如太阳能硅片)进行灵活配置,装载和卸载也可选择不同的自动化模式。

适用于异质结电池ITO和银沉积的HISTARIS在线式溅射设备

电池生产的关键在于效率。新型异质结电池技术(HJT) 能达到22 %甚至更高的电池效率,并在同时降低生产成本。

异质结电池两面是由PVD(物理气相沉积)工艺沉积的透明导电氧化物层。

凭借HISTARIS溅射设备,硅片可以在不翻转的情况下完成正反两面的沉积。此外,圆柱形溅射电磁管的设计可使靶材利用率高达。

OK

We use cookies to ensure the functionality and security of this website. In addition, third parties may set up individual documents and pages cookies. By using this site, you agree to the use of cookies.

For more information on changing this setting, and the cookies used can be found at this link.