VITRUM II

在线湿法设备,用于蚀刻、清洗与单面镀膜

VITRUM II Cover是VITRUM系列产品中的新工艺设备,专门用于以单一工序来清洁薄膜太阳能电池的后侧和边缘部位包裹的涂层。在用刷子和化学品清洁边缘和后侧的同时,活性层得到了工艺罩的保护。因此VITRUM II罩最适用于槽式镀膜工艺过程之后的清洁,以及对后侧和边缘不需要的覆膜进行蚀刻,如CdTe或CdS。

VITRUM II的模块化设计便于根据CIS、a-Si或CdTe技术(蚀刻、后侧和衬底边缘蚀刻、清洗以及单侧覆膜)整合不同工序。

主要特点

  • 模块化设计
  • 最多节省30%的成本
  • 更容易的进入维护
  • 占地面积较小
  • 使用成本低
  • 高产能
  • 高可靠性(架动率> 99 %*)
  • 标准衬底和客户定制的衬底最大达2,600 毫米
  • 高产能平行载具
  • 可重复的工艺结果

* 取决于具体应用

VITRUM II为在线湿法工序提供了平台:在一条CdTe生产线上,它能执行多道工序,从清洗玻璃开始,一直到去除后侧覆膜、用滚动滤芯沉积CdCl2、去除CdCl2以及磷酸硝酸刻蚀。

在生产薄膜硅太阳能电池或CIS/CIGS电池的过程中,VITRUM能够清洗玻璃以及进行TCO蚀刻、KCN蚀刻或NH3处理。此外,它还能为长达2,200毫米的衬底进行NP、DAE以及EDTA蚀刻。通过我们新开发的独特温和喷淋工艺,实现了均匀、可靠而可复制的蚀刻。不仅如此,与在线浸渍相比,它还具备诸多优势,例如减少工艺体积、节省能耗和化学品,以及以最小的带药量将工艺速度提高到5米/分钟。

VITRUM II的设计对各种液体回路采用了类似的管路系统,并安装了足够空间的安装柜来优化维修工作。由于生产节拍高,并且采用了模块化概念,很容易集成到现有生产线中。有了新型VITRUM II,就能充分降低工艺成本。

VITRUM II Clean 

  • 在线清洁设备(2200/1400/600)
  • 预冲洗和单侧刷洗(酸/腐蚀剂)
  • 在线最终冲洗(瀑布式清洗机),无金属
  • 在线标准冲洗、抛光与刷涂机(玻璃腐蚀)
  • 超声波和兆声波辅助(颗粒去除)

 VITRUM II蚀刻 

  • 在线蚀刻设备(2200/1400/600)
  • 在线TCO蚀刻机(HCl/HF)
  • 在线 KCN蚀刻机
  • 在线NP蚀刻机
  • 在线CuCl2蚀刻机
  • 在线光刻胶显影剂
  • 在线CdCl2去除
 


VITRUM II Cover 

  • 在线蚀刻设备
  • 去除边缘和背面周围包裹的涂层
  • 活性层保护(液体或水蒸气都无法侵袭到活性层)

VITRUM II Coat 

  • 通过软体滚芯进行薄盐膜的在线湿法沉积(如CdCl2、CuCl2 或 NaCl)
  • 自动过程控制
  • 单侧覆膜
  • 极高的材料利用率

周边设施管理
德国新格拉斯科技集团公司同时还供应: 

  • 化学品混合系统
  • 废水处理
  • 废气清扫装置
  • 去离子水
 
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