SILEX II间歇式设备为湿法化学处理提供自动干进干出解决方案

为不同规格的标准模块量身定做湿法处理设备!

德国新格拉斯科技集团为标准及高效电池生产线上硅晶片的化学处理提供完整的干进/干出解决方案。

SILEX II间歇式设备提供各种各样的加工选项。为了实现设计构型的最高灵活性,新一代的SILEX II设备采用了透明模块化设计,占地空间紧凑。SILEX II设备概念满足了目前和未来大规模生产对于产能、灵活性和稳定性的需求。

基本版SILEX II系统能实现高达3,000 wph的产量,进一步扩大工作台尺寸后可达到6000wph的产量,同时保证低于0.01 %废品率以及较高的工艺出品率。该设备能处理薄至120 μm的硅晶片,在前端电池工艺中领先于最新的SEMI光伏发展蓝图指导文件。

目前和未来的批量加工应用的核心在于单晶硅的碱性制绒加工,通过优化工艺生成的角锥形蚀刻表面具有最适宜的陷光性和接触性。SILEX II ALTEX设备应用了无异丙醇制绒工艺,较之传统蚀刻系统,能显著节省成本。

这一制绒工艺完全不使用异丙醇(IPA)之类的易燃、挥发性溶剂,而是根据标准和先进电池技术各自的需求采用市场有售的添加剂来对硅晶片进行湿法化学制绒加工。

前端电池生产中湿法批量加工应用的第二大核心在于湿法清洗。在目前和未来电池生产线上,先进的清洁程序将成为不可或缺的一环,成为进一步提高电池性能和降低成本的关键所在。基于臭氧的清洁操作在SILEX湿台架上进行,在进行表面修整的同时能有效地去除有机和金属杂质。由于化学品的成本和消耗量较低,工艺控制简单且金属去除效率较高,根据半导体行业经验,臭氧化酸洗是传统工艺中昂贵的多步RCA清洗的理想替代品。

  • 多样化槽式湿法处理清洗工具平台
  • 模块化设备设计(2/3/4/5罐式模块)灵活的生产线配置
  • 凭借灵活的软件结构进行个性化工艺排序
  • 通过机载数据日志和时间跟踪实现先进的工艺控制
  • 完整的无金属工艺罐系统设计
  • 高达3000wph的高产量
  • 高稼动率> 95 %
  • 低至0.01%的破损率
  • 硅晶片厚度薄至120 μm (后期加工)
  • 集成开关盒,占地空间紧凑
  • 用于扩大槽尺寸和增加产量的组件套件
  • 集成常规和先进清洁、蚀刻和干燥工艺
  • 可进行常规的和客户指定的升级
  • 可用集装箱装运
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